Chiphersteller kämpfen mit Lieferengpass von Neon-Gas
Der ArF-Laser Gigaphoton GT60A erzeugt 193-nm-Licht für die Halbleiter-Lithografie. (Bild: Gigaphoton) Bei der Herstellung von Halbleiter-Bauelementen kommen Hochleistungs-Laser zum Einsatz, die unter anderem das Edelgas Neon …
Der ArF-Laser Gigaphoton GT60A erzeugt 193-nm-Licht für die Halbleiter-Lithografie. (Bild: Gigaphoton) Bei der Herstellung von Halbleiter-Bauelementen kommen Hochleistungs-Laser zum Einsatz, die unter anderem das Edelgas Neon …