ASML und TSMC melden Erfolg bei der EUV-Lithografie
Wafer-Lithografiesystem ASML TwinScan NXE:3100 (Bild: ASML) TSMC ist es im Testbetrieb mit dem ASML-Lithografiesystem Twinscan NXE:3300B EUV gelungen, innerhalb von 24 Stunden mehr als 1000 Wafer zu belichten; mit diesem Durchsatz …
Wafer-Lithografiesystem ASML TwinScan NXE:3100 (Bild: ASML) TSMC ist es im Testbetrieb mit dem ASML-Lithografiesystem Twinscan NXE:3300B EUV gelungen, innerhalb von 24 Stunden mehr als 1000 Wafer zu belichten; mit diesem Durchsatz …